大(da)理(li)石平(ping)臺誤(wu)差(cha)(cha)在(zai)工作中(zhong)會出(chu)現，原因主(zhu)要(yao)有兩點，一(yi)個(ge)是(shi)加工誤(wu)差(cha)(cha)，另(ling)一(yi)個(ge)是(shi)公差(cha)(cha)，在(zai)使(shi)用(yong)構成中(zhong)要(yao)盡可(ke)能將大(da)理(li)石平(ping)臺調平(ping)，減(jian)少誤(wu)差(cha)(cha)，下面我(wo)們介紹一(yi)下大(da)理(li)石平(ping)臺誤(wu)差(cha)(cha)以及調試

加工誤(wu)差(cha)有尺寸上誤(wu)差(cha)、宏觀幾(ji)何形狀誤(wu)差(cha)、相互位置誤(wu)差(cha)、表(biao)面粗糙度(du)等。

控制幾何參數(shu)的技術規定就稱“公差",即(ji)為(wei)實際參數(shu)值所允許的變動量。

誤差在加工(gong)過程中(zhong)產生(sheng)，公差由設計人員確(que)定(ding)。公差是誤差的(de)允許值(zhi)。大(da)理石平臺在使(shi)用前(qian)需要(yao)調平，大(da)理石平臺平臺調平步驟(zou)主要(yao)有以(yi)下六(liu)點：

1、將大理(li)石平臺平放(fang)于地面，手(shou)感調(diao)整四角(jiao)穩定性，微調(diao)活動地腳，直到穩定。

2、將大理石平臺(tai)放置(zhi)在支架上，調(diao)整其支點(dian)位(wei)置(zhi)，盡量(liang)接近中間(jian)對稱。

3、初(chu)調(diao)大理石平臺各支(zhi)(zhi)腳，使各支(zhi)(zhi)點均(jun)勻(yun)受力(li)。

4、用(yong)水(shui)平(ping)測(ce)量儀器，通常使(shi)用(yong)水(shui)平(ping)尺或電子水(shui)平(ping)儀檢測(ce)大理石(shi)平(ping)臺水(shui)平(ping)狀況、微調相關支點，直到符合(he)水(shui)平(ping)位(wei)置。

5、大(da)理(li)石平臺初調(diao)合(he)格(ge)后，靜置12小(xiao)時(shi)后，進行(xing)復制，如(ru)不合(he)格(ge)需(xu)進行(xing)再次調(diao)整，如(ru)合(he)格(ge)方可使用(yong)。

6、大理石平臺使用后根(gen)據實際實地環境(jing)周期性檢測維護。